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EDI高纯水设备

发布时间:2021-12-27人气:59

RO-EDI高纯水制取设备(超纯水处理设备)

 一、EDIElectrode-ionization)是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底,又利用电渗析极化而发生水电离产生HOH离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展,EDI技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场。EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗透配合使用,,组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统,,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5Ω·cm,反渗透装置完全可以满足要求。EDI装置可生产电阻率高达18Ω·cm以上的超纯水。

二、应用领域

A、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室。
B、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

C、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
D、超纯材料和超纯化学试剂;
E、实验室和中试车间;
F、汽车、家电表面抛光处理;
G、光电产品;
H、其他高科技精微产品

三、工艺图

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EDI连续脱盐设备(代替混床)可以做到3年使用期内不需要酸碱再生。设备采用反渗透膜作为除盐主体设备,做到排污时无工业污染废水排除,超纯水工艺采用国外先进的EDI连续除盐工艺,做到了不需酸碱再生,自动电离再生法,省电,环保等。

 

 电子级超纯水中国国家标准(GB/T11446.1-1997

 

项目

级别

比电阻MΩ.cm@25℃

硅≤ μg/L

>1μm微粒数<个/ml

细菌个数< 个/ml

铜≤μg/L

锌≤μg/L

镍≤μg/L

钠≤μg/L

钾≤ g/L

氧≤ μg/L

硝酸根≤
μg/L

磷酸根≤
μg/L

硫酸根≤μg/L

总有机碳≤μg/L

EW-Ⅰ

18(95%的时间不低于17)

2

0.1

0.001

0.2

0.2

0.1

0.5

0.5

1

1

1

1

20

EW-Ⅱ

15(95%的时间不低于13)

10

5

0.1

1

1

1

2

2

1

1

1

1

100

 

一般城市水源中存在钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐等溶解物。这些化合物由带负电荷的阴离子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透预处理,99%以上的离子可以被除去。另外,原水中也可能包括其他微量元素、溶解的气体(例如CO2)和一些弱电解质(例如硼,二氧化硅)这些杂质在工业除盐水中必须被除掉。但是反渗透过程对于这些杂质的清除效果较差。

 

EDI的工作过程中离子交换膜是不允许水通过的。因此,他们可以隔绝淡水和浓水水流。离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。阴离子交换膜只允许阴离子通过,不允许阳离子通过;而阳离子交换膜正好相反。在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成一个EDI单元。阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。将一定数量的EDI单元罗列在一起,使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列,并使用网状物将每个EDI单元隔开形成浓水室。在给定的直流电压的推动下,在淡水室中,离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正负极迁移,并透过阴阳离子交换树脂进入浓水室,同时,给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由离子电迁移而流下的空位。事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。通过这样的过程,给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。

带负电荷的阴离子(例如0H—Cl—)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜,进入到临近的浓水室中。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到临近的阳离子交换膜,而阳离子交换膜不允许其通过,这些离子即被阻隔在浓水中,在浓水中,透过阴阳膜的离子维持电中性。

DI组件电流量和离子迁移量成正比。电流量由两部分组成,一部分源于被除去离子的迁移,另一部分源于水本身电离产生的H+0H-,这些就地产生的H+0H-对离子交换树脂进行连续再生。

EDI组件中的离子交换树脂可以分为两部分,一部分称作工作树脂,另一部分称作抛光树脂,二者的界限称为工作前沿。工作树脂主要起导电作用,而抛光树脂在不断交换和被连续再生。工作树脂承担着除去大部分离子的任务,而抛光树脂则承担着去除象弱电解质等较难清除的离子的任务。

EDI的电源所使用的直流电源应在运行电压范围内空调,并可以提供再生需要的电压。直流电源的功率应满足EDI最大电流(6A)的要求。直流电源的纹波率不能超过30%。过高的纹波率会使EDI组件在瞬间承受高于表观有效电流/电压,造成对组件的破坏。当多个EDI组件共用一个直流电源时,每个EDI电压/电流应实现独立可调。配有电压表和电流表。同时,应当配备限流装置。为保护EDI组件,当流经EDI组件的水流量低于某一点时,应关闭电源。

 

 

 

RO-EDI高纯水制取设备(超纯水处理设备)

 一、EDIElectrode-ionization)是一种将离子交换技术、离子交换膜技术和离子电迁移技术(电渗析技术)相结合的纯水制造技术。该技术利用离子交换能深度脱盐来克服电渗析极化而脱盐不彻底,又利用电渗析极化而发生水电离产生HOH离子实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷,20世纪80年代以来逐渐兴起的新技术。经过十几年的发展,EDI技术已经在北美及欧洲占据了相当部分的超纯水市场。EDI装置属于精处理水系统,一般多与反渗透配合使用,,组成预处理、反渗透、EDI装置的超纯水处理系统,,取代了传统水处理工艺的混合离子交换设备。EDI装置进水要求为电阻率为0.025-0.5Ω·cm,反渗透装置完全可以满足要求。EDI装置可生产电阻率高达18Ω·cm以上的超纯水。

二、应用领域

A、制药行业、微电子行业、发电工业和实验室。
B、在表面清洗、表面涂装、电解工业和化工工业的应用也日趋广泛。

C、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;
D、超纯材料和超纯化学试剂;
E、实验室和中试车间;
F、汽车、家电表面抛光处理;
G、光电产品;
H、其他高科技精微产品

三、工艺图

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EDI连续脱盐设备(代替混床)可以做到3年使用期内不需要酸碱再生。设备采用反渗透膜作为除盐主体设备,做到排污时无工业污染废水排除,超纯水工艺采用国外先进的EDI连续除盐工艺,做到了不需酸碱再生,自动电离再生法,省电,环保等。

 

 电子级超纯水中国国家标准(GB/T11446.1-1997

 

项目

级别

比电阻MΩ.cm@25℃

硅≤ μg/L

>1μm微粒数<个/ml

细菌个数< 个/ml

铜≤μg/L

锌≤μg/L

镍≤μg/L

钠≤μg/L

钾≤ g/L

氧≤ μg/L

硝酸根≤
μg/L

磷酸根≤
μg/L

硫酸根≤μg/L

总有机碳≤μg/L

EW-Ⅰ

18(95%的时间不低于17)

2

0.1

0.001

0.2

0.2

0.1

0.5

0.5

1

1

1

1

20

EW-Ⅱ

15(95%的时间不低于13)

10

5

0.1

1

1

1

2

2

1

1

1

1

100

 

一般城市水源中存在钠、钙、镁、氯化物、硝酸盐、碳酸氢盐等溶解物。这些化合物由带负电荷的阴离子和带正电荷的阳离子组成。通过反渗透预处理,99%以上的离子可以被除去。另外,原水中也可能包括其他微量元素、溶解的气体(例如CO2)和一些弱电解质(例如硼,二氧化硅)这些杂质在工业除盐水中必须被除掉。但是反渗透过程对于这些杂质的清除效果较差。

 

EDI的工作过程中离子交换膜是不允许水通过的。因此,他们可以隔绝淡水和浓水水流。离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。阴离子交换膜只允许阴离子通过,不允许阳离子通过;而阳离子交换膜正好相反。在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成一个EDI单元。阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。将一定数量的EDI单元罗列在一起,使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列,并使用网状物将每个EDI单元隔开形成浓水室。在给定的直流电压的推动下,在淡水室中,离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正负极迁移,并透过阴阳离子交换树脂进入浓水室,同时,给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由离子电迁移而流下的空位。事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。通过这样的过程,给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。

带负电荷的阴离子(例如0H—Cl—)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜,进入到临近的浓水室中。此后这些离子在继续向正极迁移中遇到临近的阳离子交换膜,而阳离子交换膜不允许其通过,这些离子即被阻隔在浓水中,在浓水中,透过阴阳膜的离子维持电中性。

DI组件电流量和离子迁移量成正比。电流量由两部分组成,一部分源于被除去离子的迁移,另一部分源于水本身电离产生的H+0H-,这些就地产生的H+0H-对离子交换树脂进行连续再生。

EDI组件中的离子交换树脂可以分为两部分,一部分称作工作树脂,另一部分称作抛光树脂,二者的界限称为工作前沿。工作树脂主要起导电作用,而抛光树脂在不断交换和被连续再生。工作树脂承担着除去大部分离子的任务,而抛光树脂则承担着去除象弱电解质等较难清除的离子的任务。

EDI的电源所使用的直流电源应在运行电压范围内空调,并可以提供再生需要的电压。直流电源的功率应满足EDI最大电流(6A)的要求。直流电源的纹波率不能超过30%。过高的纹波率会使EDI组件在瞬间承受高于表观有效电流/电压,造成对组件的破坏。当多个EDI组件共用一个直流电源时,每个EDI电压/电流应实现独立可调。配有电压表和电流表。同时,应当配备限流装置。为保护EDI组件,当流经EDI组件的水流量低于某一点时,应关闭电源。

 

 

 



 




 

 



 




 

 


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